第113章 必须对光刻机的系统进行改造

　　郭一略一沉思，便知道安城在担心什么，他也是笑了笑，然后说道：

　　“这种制程工艺的提升并不具备通用性，这种改造的原理很简单，我也只是在光刻十步法的基础上进行的微调。

　　光刻十步法，这并不是什么新鲜的东西，其中的流程大家都知道，这是基础原理。

　　如果用在同类型的光刻机，也就是魔都微电子的90nm这款光刻机上，我的改造方案是有参考价值的。但换一种光刻机的话，那就完全不适用了。”

　　郭一想了想，就接着说道：“问题不大，不用做什么特别的限制。而且，这真的不是什么先进的东西。”

　　设计和改造，那都是一对一的，同样的光刻机参照郭一之前的改造方案，制造14nm芯片是有可能的。

　　但要升级7nm，那就必须郭一亲自到场，对所有可能影响制造的东西都进行精密细致的推演才行。

　　其他光刻机，这个设计方案的只有理论参考价值，而且非常小，重要的是方案的重新设计。

　　而重新设计的这个过程，那可是郭一通过极致推演得来的，别人想学也学不到的啊。

　　至于理论，那就更没什么保密的了。郭一运用的也都是基础原理，只不过是通过推演把细节做到极致了而已。

　　“而且，我相信没人愿意走的。”郭一自信的笑容，让林欣很是着迷。

　　“我这里不仅有制造7nm的技术，以后还会有更高级更高级的技术，甚至光刻这种东西，以后都会渐渐的沦为低端货。

　　只有待在这里，才能接触到更高端更先进的技术和理念，一旦离开，那就意味着落伍。”

　　郭一接着说道：“以后，有我所在的地方那只有挤破头往里进的的。想往外跑的肯定都是目光短浅的人，这样的人走就走吧，目光短浅的人我们也不稀罕。”

　　看着郭一自信的样子，安城也是笑了，这理念、这思维一般人还真是比不了。

　　不过，郭一确实有这样的实力，这一点，安城丝毫不怀疑，郭一这几个月的表现安城可都看在眼里呢。

　　“那好。”安城也是说道：“就按你说的做。公司这就要到了，接下来怎么安排？召集工程师们一起见个面吗？”

　　“不，不用召集他们，让他们该做什么做什么，我们直接去A1厂。”

　　郭一来的目的很明确，那就是现场观摩生产，现场推演生产的各个流程，看哪个方面还有能够改进的地方，至于见人，暂时没有必要。

　　“那好。”

　　安城也是颇为感慨，两个月前，自己过来的时候，想要领导这些高级工程师们，还必须要施一些手段，给一些利益。

　　哪像郭一，这人还都没到，这些高工就已经心悦诚服了。

　　“这也许就是知识的力量吧？”安城内心也是疯狂的这样感慨着。

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　　“常工，郭工直接A1厂了。”

　　严格来说，郭一现在是拜仁的最大股东，不过他不管事儿，在未来也想过要管事儿，这次来的也很低调。

　　穿了一身防静电工衣和其他防护装备之后，直接就在安城的带领下出现在了A1厂。第一天，他的主要任务就是熟悉整个流程。

　　“啊？没有来办公区？直接去了工厂？是要做什么？”

　　常凯也有些懵，难道不应该先开个会，跟大家见个面聊一聊吗？怎么这么直接的？

　　他根本不知道，无论任何时候，郭一都不是喜欢开会的一个人。

　　即便非开不可的会，他也喜欢开小会开短会，上来就说重点问题，说完就各干各的去，从不玩儿毫无意义的长篇大论那一套。

　　“看来，这是一个实干家啊！”常凯最后感慨道：

　　“不会这就直接上手为再次改进生产工艺进而生产7nm芯片去做论证了吧？”

　　这，还真让常凯说准了，郭一的目的就是这个，否则他连吴州都不会来，有这时间，直接待在中州睡大觉不香吗？这些天他忙得睡觉的时间比起一年前减少了至少三分之二。

　　实地来到工厂，跟看工程师们给的生产流程详细资料，那是完全不同的感觉。

　　这一切都在眼中，郭一只要一愣神，那就是一番极致的推演。

　　现代的制造工厂，即便是最高端的芯片制造工厂，那也不可能完美无瑕，这世界上就不存在完美无瑕的东西。

　　郭一这一推演，这些瑕疵根本就无所遁形，直接展现在眼前。

　　其中一些瑕疵无关紧要，改进成本较高，对整个生产工艺的影响也不是很大，郭一直接就略过了。

　　他要找的就是那些关键性的控制节点，比如这个——掩膜版与晶圆的对准工艺。

　　掩膜版与晶圆的对准至关重要，它将直接限制芯片的集成密度和电路的性能。

　　A1工厂现在正在使用的这款步进扫描投影光刻机，采用的是四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术。

　　这种步进扫描投影光刻机在对准的过程中，晶圆片并不直接对准掩膜，而是圆片和掩膜经过各自的光路，对准于曝光系统的光学链上。

　　而这两个过程的精准匹配非常重要，些微的系统误差对芯片的性能就会产生影响。

　　郭一也是一遍又一遍的重复着现在的这个过程的推演，他不是没找到问题，但找到这个误差容易，但要消除它，那也确实没那么简单，需要极为精密的调整。

　　当大量光穿过掩膜时，不可避免的会造成掩膜材料的发热，发热膨胀，这是一个无法避免的事情。

　　即便是掩膜版采用了热膨胀系数极低的材料，在0.71度的温度变化下也会产生0.1微米的膨胀。

　　可不要小看这0.1微米，就是它造成的掩膜版和晶圆片的对准精度误差，从而影响了之后的曝光精度和制程工艺。

　　“热膨胀无法避免，这个系统内几乎所有原件都受到热膨胀的影响。”

　　郭一这样思索着：“而这里边一定有某种联系，也绝对存在某种恰好的选择，使得这些热膨胀之间通过各自的相互作用，最后达到一种完美的效果。”

　　郭一这样想着，脑子里渐渐有了一个解决方案。

　　光刻机是精密的，但在郭一眼里，它再精密能精密的过人类的大脑吗？

　　大脑接收信息的规律都被总结出来了，光刻机所使用的这些关键材料才多少？

　　总结出一个把各种材料的热膨胀影响相互抵消的方案，那根本就没有多大的难度。

　　相比于之前的总结大脑视觉信号规律，这个甚至要简单的多了。

　　“不过，这就涉及到另外一个问题，那就是光刻机的控制系统了。”

　　郭一闭上眼，点了点头，确认现在光刻机的控制系统是不适用自己的改造方案的。

　　“必须对光刻机的系统进行改造。”郭一心里有了决定。

　　


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